106年第1季，发明、新型、设计三种专利新申请案17,670件，较上年同期成长6%，另一方面，商标注册申请量18,976件，较上年同期增加5%。
一、 专利申请趋势
(一) 106年第1季，三种专利新申请案17,670件，较上年同期成长6%。其中，发明11,174件，新型4,659件，设计1,837件，分别增加8%、2%、3% (如表1)。
(二) 发明专利申请当中，本国人3,769件，外国人7,405件，分别增加8%、9%(如表1)。外国人部分，以日本3,540件最高，其次依序为美国(1,604件)、中国大陆(425件)、香港(417件) 、南韩(401件) (如图1)。
(三) 发明专利申请前五大，本国法人部分，分别为台积电(132件，+326%)、联发科(83件，+592%) 、鸿海(78件，+63%)、宏棋(61件，+22%) 、友达光电(58件，-22%)。外国法人部分，分别为阿里巴巴(372件，+879%)、英特尔(159件，+5%)、高通(144件，-4%)、东京威力(99件，+15%) 、半导体能源研究所(98件，-7%) (如图2)。
(四) 本国人发明专利申请当中，企业2,735件，较上年同期大增11%。大专院校320件，个人605件，与上年同期件数差异不大，分别增加3%、1%；而研究机构109件，则减少14%(如图3)。大专院校当中，以清华大学 (30件)最多，其次依序为长庚大学(16件)及台湾大学(15件) (如表3)。

二、 专利公告发证趋势
(一) 106年第1季，三种专利公告发证案17,923件，较上年同期减少6%。其中发明12,130件，新型4,178件，设计1,615件，分别减少3%、11%、13%(如表4)。
(二) 发明专利公告发证当中，本国人5,053件，外国人7,077件，分别减少4%、3% (如表4)。外国人部分，以日本3,370件最高，其次为美国(2,168件)、中国大陆(550件)、南韩(540件)、德国(406件) (如图4)。
(三) 发明专利公告发证前五大，本国法人部分，分别为鸿海(275件)、工研院 (177件) 、台积电(165件)、友达光电(142件)、旺宏电子(86件)。外国法人前五大，分别为英特尔 (270件)、半导体能源研究所(195件)、苹果公司(108件)、东京威力(99件)、三菱电机及三星显示器 (均为76件) (如图5)。
三、 商标申请趋势
(一) 106年第1季，商标注册申请案18,976件，较上年同期成长5%(如表1)。
(二) 本国人14,097件，增加9%；外国人4,879件，减少5%(如表1)。
(三) 外国人部分，以中国大陆(934件)最高，其次依序为日本(877件)、美国(802件)、南韩(304件) 、香港 (296件) (如图1)。
106年第1季统计已置於智慧财产局网站「统计季报」下，欢迎各界参阅。
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